Des produits

La vanne à membrane EP VCR à haut et bas débit est utilisée dans les conduites de gaz de haute pureté et les systèmes de gaz de process propres. Elle assure une étanchéité fiable, une connexion VCR et une régulation stable du gaz pour les applications exigeantes.

Le groupe de vannes d'alimentation en gaz unilatérales TKF 3 est utilisé pour les stations de bouteilles de gaz et les locaux de distribution de gaz spéciaux. Cet ensemble permet une distribution de gaz contrôlée, une gestion de la pression et une installation organisée.

Le groupe de vannes de réduction de pression à commutation automatique bilatérale TKF-5-1 est adapté aux projets d'alimentation en gaz centralisée. Cet ensemble permet une commande de commutation pratique, une réduction de pression et un débit de gaz stable.

Le robinet à membrane axial mural TKF 5 7 est conçu pour les applications de contrôle des gaz de haute pureté et des fluides nécessitant une étanchéité fiable, une installation propre et une performance stable. Ce produit aide les acheteurs de systèmes de gaz industriels et de laboratoires de semi-conducteurs à comparer les différentes options de robinets à membrane TKF 5 7 pour le contrôle de la pression terminale, la sécurité des canalisations et la distribution des gaz de procédé.

Le groupe de vannes de réduction de pression à commutation automatique bilatérale TKF 2 est conçu pour la commutation des bouteilles de gaz et l'alimentation centralisée en gaz. Ce groupe de vannes assure une régulation stable de la pression et une alimentation continue et fiable.

Le groupe de vannes de réduction de pression à commutation automatique bilatérale TKF 1 est utilisé dans les systèmes centralisés d'alimentation en gaz. Ce groupe de vannes assure la commutation automatique des bouteilles, une réduction de pression stable et une alimentation en gaz fiable.

La vanne à membrane haute et basse pression BA VCR est conçue pour les applications de contrôle de gaz de haute pureté utilisant les normes de raccordement VCR. Elle assure une étanchéité stable, un débit contrôlé et un fonctionnement fiable dans les systèmes de gaz de process et de gaz spéciaux.

La canalisation de gaz haute pureté EP pour systèmes de traitement des semi-conducteurs est conçue pour la distribution de gaz propre. Son traitement électropoli assure un contrôle de la contamination, un débit de gaz stable et une installation fiable dans les environnements de traitement haute pureté.

Le robinet à bille radial mural TKF 5 3 est conçu pour les applications de contrôle des fluides et de canalisations de gaz de haute pureté exigeant une étanchéité fiable, une installation propre et une performance stable. Ce produit permet aux acheteurs de systèmes de gaz industriels et de laboratoires de semi-conducteurs de comparer les différentes options de robinets à bille TKF 5 3 pour le contrôle de la pression terminale, la sécurité des canalisations et la distribution de gaz de procédé.

La vanne à membrane pneumatique EP VCR haute/basse pression est conçue pour les applications de contrôle des fluides et de canalisations de gaz de haute pureté exigeant une étanchéité fiable, une installation propre et une performance stable. Ce produit permet aux acheteurs de systèmes de gaz industriels et de laboratoires de semi-conducteurs de comparer les différentes options de vannes à membrane pneumatiques EP VCR pour le contrôle de la pression terminale, la sécurité des canalisations et la distribution des gaz de procédé.